被拜登惹惱！陸想報復美國晶片限制 專家點破最大罩門

美國無所不用其極遏制中國晶片業發展。

美國政府去年10月公佈新一輪對中國晶片的禁令，更拉攏盟友跟進制裁，傳出中國爲抗衡美國，將禁止某些稀土磁鐵技術的出口。美媒分析指出，雖然中國試圖報復美國的晶片管制，但極紫外光刻機（EUV）仍是其最大罩門。

根據美聯社報導，中國晶片公司最先進的蝕刻機臺只能28奈米的製造技術，與其他競爭對手相比差異很大，像是臺積電已能量產3奈米，正在向2奈米邁進，是中國工業精度的十倍。

貝恩策略顧問公司Peter Hanbury表示，要製造最新的晶片，需要極紫外光刻機產品，這是一個非常複雜的工藝。他強調，在美國晶片管制下，中國將無法生產具有競爭力的服務器、個人電腦和智慧手機晶片。

華爲去年12月在其網站上的一段視頻中，提到正在研究EUV 技術，但報導引述行業專家說法指出，製造一臺可與荷蘭設備大廠ASML（艾司摩爾）媲美的機器可能需要50億美元，並且需要十年的研究。Peter Hanbury說，中國距離極紫外光刻機能夠自給自足的那一天「還很遙遠」。

科技行業顧問Handel Jones則表示，如果中國無法獲得下一代晶片或製造自己的設備，將在2025年或2026年「碰壁」，將開始大幅落後。