光谷攻克芯片光刻膠關鍵技術

10月15日，中國光谷誕生重大科技成果：武漢太紫微光電科技有限公司在全國率先攻克合成光刻膠所需的原料和配方，我國芯片製造關鍵原材料取得瓶頸性突破。該公司新型光刻膠產品已通過半導體工藝量產驗證，即將量產。

太紫微公司成立於2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。團隊主攻關鍵光刻膠底層技術研發，已在電子化學品領域深耕20多年。

該公司科研人員介紹，光刻膠是一種感光材料，用於芯片製造的光刻環節，工作原理類似於照相機的膠捲曝光。芯片製造時，會在晶圓上塗上光刻膠，在掩膜版上繪製好電路圖。當光線透過掩膜版照射到光刻膠上會發生曝光，經過一系列處理後，晶圓上就會得到所需的電路圖。

由於光刻膠是芯片製造的關鍵材料，國外企業對其原料和配方高度保密，目前我國所使用的光刻膠九成以上依賴進口。

“這是我國首次攻克合成光刻膠所需原料和配方，對我國逐步改變在集成電路領域的受制現狀具有重大意義。”太紫微公司負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強表示，相較於全球同系列產品，該新型光刻膠在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120納米，且工藝寬容度更大、穩定性更高。（記者張真真、通訊員康鵬、王冰倩）