光子芯片，中國芯片領域重大進步

>據《北京日報》今日報道，從中科鑫通獲悉，

光刻機

我國在高端10納米以下製程電子芯片落後於國際先進水平

在電子硅芯片領域，必須依賴高端EUV（極紫外線光刻機）的蝕刻能力，以高精密工藝來獲得5納米以下的製程精度，以便在有限的空間內集成更多的晶體管。

EUV光刻機

目前，美國聯合歐洲各國打造的芯片聯盟旨在對中國採取芯片封鎖，以阻遏中國的高端芯片發展。至少在最近兩年，中國在獲得高端精密芯片方面受到了巨大的阻礙。尤其是華爲，作爲5G技術專利的領頭羊企業，卻只能賣4G手機，這不得不說是一種無奈。

中國企業跨賽道光子芯片超越

目前，國內最先進的晶圓代工企業中芯國際已經能夠量產14納米制程芯片，但這與臺積電、三星、英特爾等擁有5納米，甚至3納米制程工藝仍有10年以上的差距。尤其在光刻機領域，國內自主光刻機技術與荷蘭阿斯麥的EUV光刻機存在着天淵差距。

我們在芯片領域有兩條線可以打破芯片對高端光刻機的依賴，其一是碳基芯片，其二便是光子芯片。中科鑫通籌建的光子芯片產線，將是有效打破芯片對高端光刻機依賴局面的具體實現。

光子芯片

儘管中科鑫通的光子芯片產線要在2023年建成，但我們看到了打破國際上對我國高端光刻機和芯片的封鎖的希望和成果。這將有效增強中國在芯片領域的話語權，而且光子芯片一旦進入商用階段，中國勢必在該領域形成先發優勢。

光子芯片優於電子芯片

在性能方面，光子芯片的計算速度較電子芯片快約1000倍，且功耗更低。光子芯片的製備流程與集成電路芯片存在一定相似性，但側重點在於外延設計與製備環節，而非光刻環節。民生證券指出，這也決定了光子芯片行業中，IDM模式是主流，有別於標準化程度高、行業分工明確的集成電路芯片。

光子芯片

相較於電子芯片，光子芯片對結構的要求較低，一般是百納米級，因此降低了對先進工藝的依賴。這就意味着，我國目前14納米級的生產技術完全可以滿足光子芯片的生產需求。

光子芯片將讓中國奪回芯片話語權

中國是全球最大的芯片消費市場，而且中國擁有最完善的產業鏈。一旦在光子芯片領域的商用市場被打開，中國企業勢必會成爲該領域的主要力量。

光子芯片發展的決定力量是市場，只有旺盛的市場需求，才能爲光子芯片帶來巨大技術研發資金。而海量的投資，則是光子芯片技術發展的保障。

中國在光子芯片領域具有先發優勢，又有市場和產業鏈優勢，獲得光子芯片的世界話語權就擁有了得天獨厚的條件。