賽默飛：新品發佈會

伴隨着半導體工業技術與工藝的不斷突破以及產能的持續增加，尤以晶圓製造廠爲例，PFA物性失效分析的需求量正與日俱增。如何更加高效率、高質量、高精度、低成本地助力半導體晶圓廣進行研發和良率提升等工作，已成爲失效分析實驗室亟待解決的問題。賽默飛推出全新Hlios 6 HD雙束電鏡以及Merios 6透射電鏡將有效幫助半導體客戶克服這些實際挑戰，滿足高產能、高質量、低成本的測試分析需求。