臺積電5奈米佔今年晶圓銷售金額20% 3奈米明年下半年量產

臺積總裁哲家15日於法人說明會中,針對先進製程進度提出看法。魏哲家表示,臺積電5奈米(N5)技術業界最先進的解決方案,具有最佳的效能功耗面積(PPA)。N5已經進入量產的第二年,目前良率原本預期的要好。

智慧型手機高效能運算(HPC)相關應用的驅動下,N5的需求持續強勁。我們預期2021年,N5將佔臺積電晶銷售金額約20%。

臺積電4奈米(N4)奠基於N5的強大基礎,將進一步延續我們的5奈米家族。魏哲家表示,藉由相容的設計法則,N4技術能從N5技術直接升級,同時進一步提升效能、功耗及密度,支援下一波的5奈米產品。N4技術預計於2021年下半年試產,並於2022年進入量產。在對智慧型手機和HPC相關應用的強勁需求下,我們預期未來數年對5奈米家族的需求將持續成長。

在3奈米(N3)部份,魏哲家表示,N3是繼N5之後另一個全世代製程,將使用FinFET架構來提供客戶最成熟的技術、最好的效能及最佳的成本。我們的N3按照計劃開發且進度良好,相較於N5及N7的類似時期,我們持續觀察到N3在高效能運算及智慧型手機應用上都有較多客戶投入。

臺積電N3試產時間計劃在2021年,並預計在2022下半年量產。臺積公司N3技術預期推出時在PPA(效能、功耗及面積)及電晶體技術上,都將會是業界最先進的技術。