臺積電正在使用英偉達計算光刻平臺進行生產：提升性能，縮短週期，降低功耗

今年初，英偉達宣佈臺積電（TSMC）和新思科技（Synopsys）兩大半導體行業巨頭將使用計算光刻平臺進行生產，加速製造並突破下一代先進半導體芯片的物理極限。英偉達創始人兼首席執行官黃仁勳表示，計算光刻是芯片製造的基石，利用cuLitho與新算法，相比於當前基於CPU的方法，極大地改進了半導體制造工藝。

英偉達確認，臺積電正在使用cuLitho計算光刻平臺進行生產，使其能夠加速下一代芯片技術的開發。英偉達還開發了應用生成式人工智能的算法，以進一步提升cuLitho計算光刻平臺的價值，與加速計算相結合，讓工作流程提升了額外兩倍的速度。

臺積電董事長兼首席執行官魏哲家表示：“我們與英偉達合作，將GPU加速運算整合到臺積電的工作流程中，從而實現了性能的巨大飛躍，大幅提高了吞吐量，縮短了週期時間，並降低了功耗要求。”

計算光刻主要通過軟件對整個光刻過程進行建模和仿真，使用光掩模文件的數學預處理來調整光學光刻中的像差和效果，以優化光源形狀和光罩形狀，減小光刻成像與芯片設計差距，從而使光刻效果達到預期狀態，從而提高良品率。據瞭解，利用cuLitho計算光刻庫，可以將工作負載轉換成GPU並行處理，使得500個NVIDIA DGX H100就能完成40000個CPU組成的系統所完成的工作。

英偉達稱，通過GPU而不是CPU運算，可以將計算光刻的效率提高40倍，大大減輕晶圓廠的負擔。