統懋半導體新市廠汙染土壤地下水 環境部公告解除列管

統懋半導體新市廠土壤及地下水受有機溶劑污染，5年前被公告爲污染整治場址，經完成污染改善且驗證合格，環境部今天公告解除列管。圖／南市環保局提供

統懋半導體新市廠土壤及地下水含氯有機污染物、氟鹽超過管制標準，2018年被公告爲污染整治場址，臺南市環保局今宣佈，新市廠已在去年6月完成污染改善且經驗證合格，環境部今天公告解除列管。

臺南市環保局表示，爲釐清工業區地下水污染整治責任，2016年辦理新市工業區土壤及地下水污染調查，發現土壤及地下水受有機溶劑污染，依規定於2018年3月28日公告爲土壤及地下水污染控制場址。歷經相關調查及應變必要措施，環境部環管署同年8月15日公告爲土壤及地下水污染整治場址，並處污染行爲人統懋半導體股份有限公司15萬元罰鍰。

環保局長許仁澤表示，除要求該公司提出整治計劃進行改善，整治期間定期邀集專家學者召開會議，督促行爲人改善及預防2次污染。該公司爲顯企業責任，原核定5年改善期程，在環保局嚴格監督下，提早2年完成污染改善工作，花費整治費用2千6百萬元，

環保局去年10月進場驗證，土壤及地下水污染物濃度已低於管制標準，且經環保署同意解除土壤及地下水污染整治場址列管，完成土地活化面積約2萬平方公尺。

市長黃偉哲表示，工業區的存在可帶動區域經濟的發展、增加就業機會，但密集的產業聚落使得污染潛勢增加；除政府機關主動調查與積極監督外，工業區也應辦理土壤及地下水品質監測，建立預警機制，確保工業土地永續利用，共同維護環境品質與民衆健康。