《興櫃股》新應材預計下月中上櫃 前3季營運已締年度新猷

新應材2003年成立，以面板及半導體光學元件光阻材料起家，2018年轉型投入半導體先進製程，聚焦開發良率關鍵的微影（Lithography）特化材料，目前着重半導體先進微影製程、半導體光學元件製程、顯示器製程、Micro LED量子點材料等四大發展主軸。

新應材2024年前三季合併營收24.06億元、年增35.57％，營業利益4.46億元、年增達1.45倍，配合業外收益倍增助攻，使歸屬母公司稅後淨利5.24億元、年增達1.22倍，每股盈餘6.39元，均已提前改寫年度新高。其中，半導體營收佔比達78.5％、顯示器佔比21.5％。

新應材董事長詹文雄表示，公司2019年迄今投入半導體的資本支出及研發費用合計已逾40億元，隨着2023年先進黃光微影材料獲晶圓代工客戶採用、3奈米制程正式量產，配合高雄廠一期正式量產助攻，規模經濟顯現帶動今年營運顯著成長。

新應材指出，半導體特化材料開發及驗證時間長，公司具4大關鍵競爭優勢，一、從配方開發向上整合自建原料合成能力。二、建立本土材料供應鏈策略聯盟。三、快速回應及高學習曲線。四、優異的品質控管及自主設計製程技術，已搶佔與國際材料大廠競爭有利位置。

新應材主力產品爲半導體先進製程光阻周邊的表面改質劑（Rinse），爲微影製程良率關鍵材料，前三季營收貢獻達69.8％。未來將持續朝奈米級微影特化材料發展，包括即將到來的2奈米及未來的1.4奈米制程關鍵材料，可有效提升先進微影製程終端應用良率。

新應材目前在桃園、臺南、高雄設有生產基地，作爲研發中心的桃園廠生產顯示器特化材料，臺南廠及高雄廠均生產半導體特化材料、並於去年同步展開二期擴建，其中臺南廠二期預期明年完成驗證量產，高雄廠二期則預計明年春節後展開試產驗證。

展望後市，新應材將持續投入半導體微影製程的特化材料開發技術，提供客戶高品質的多元產品。目前除了以光阻周邊特化材料爲發展基礎外，已成功開發深紫外光（DUV）光阻，可應用半導體微影製程及光學元件製程，目標成爲首家半導體光阻本土供應商。

詹文雄表示，新應材前三季毛利率35.58％、營益率18.56％，雙創同期新高，公司目前仍在大量投資期，隨着規模經濟效益顯現，既有產品需求增加、新產品稼動率提升降低單位成本，看好將爲公司帶來下一波成長動能，認爲未來2～3年毛利率仍有很大改善空間。