英特爾完成首臺商用高數值孔徑EUV光刻機組裝
4月18日,美國芯片公司英特爾宣佈,已接收並完成組裝業界首臺商用高數值孔徑(High NA)極紫外(EUV)光刻機。據介紹,這套重達165噸的設備是阿斯麥(ASML)與英特爾合作數十年後開發的新一代光刻設備,現位於俄勒岡州的D1X製造工廠,正在進行最後的校準。
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