明陽薄膜申請均勻沉積蒸鍍裝置專利，能夠形成較大面積且均勻的沉積蒸鍍膜層

金融界2024年10月26日消息，國家知識產權局信息顯示，廣東明陽薄膜科技有限公司申請一項名爲“一種均勻沉積蒸鍍裝置”的專利，公開號 CN 118814115 A，申請日期爲2024年6月。

專利摘要顯示，本發明公開了一種均勻沉積蒸鍍裝置，包括殼體、第一孔篩件、第二孔篩件、第一加熱組件以及蒸鍍載具，殼體內設有蒸鍍腔以及氣化腔，氣化腔位於蒸鍍腔的上方，第一孔篩件設置有多個第一微孔，第一微孔分別連通蒸鍍腔和氣化腔，第二孔篩件設置在殼體並且位於氣化腔中第二孔篩件限定出儲料腔，第二孔篩件設置有多個第二微孔，第二微孔分別連通儲料腔和氣化腔，第一加熱組件設置在殼體並且位於氣化腔中，第一加熱組件發熱能夠使得蒸鍍物料氣化並且氣化的蒸鍍物料能夠通過第一微孔和第二微孔，蒸鍍載具用於放置待蒸鍍的基材，第一孔篩件位於蒸鍍載具的上方；本設計能夠形成較大面積且均勻的沉積蒸鍍膜層，優化蒸鍍效果，提高生產效率。

本文源自：金融界

作者：情報員