臺積電劉德音：3奈米進度超前
臺積電董事長劉德音受邀於2021年國際固態電路會議（ISSCC 2021）線上專題演說時，釋出令人振奮消息，他說，臺積電的3奈米制程按照計劃時程發展，甚至比預期進度超前一些；因此他有信心看到未來節點將會如期而至。
受到疫情影響，今年的ISSCC改以全線上方式舉行，於美國時間2月13日至22日舉行。劉德音擔綱開場演說，主題爲「揭密創新未來」（Unleash the Future of Innovation），談到許多引領半導體技術發展至今的創新，以及繼續向前邁進的潛在途徑。
劉德音表示，半導體制程微縮腳步並未減緩，積體電路的功耗、性能與電晶體密度仍在持續進步，臺積電的3奈米制程按照計劃時程發展，甚至比預期進度超前了一些；因此他有信心看到未來節點將會如期而至。
除了在製程節點上的超前，極紫外光微影（EUV）技術也是一大挑戰。劉德音說，EUV因爲能讓製程過程中，使用較少層數的光罩，達到理想成本，但量產仍是個問題。此外，EUV功耗極大，臺積電也爲此取得350W照明光源技術突破，可支援5奈米量產、甚至到1奈米節點。