荷蘭限制部分型號光刻機出口 中國市場影響幾何
經濟觀察網 記者 沈怡然 荷蘭政府要求ASML停止向中國提供DUV浸潤式光刻機的消息得到了進一步證實，這一次出口管制的範圍已經精確到設備型號。
3月8日，荷蘭貿易和發展合作部長Liesje Schreinemacher發佈了一份主題爲“宣佈即將對先進半導體制造設備採取的出口管制措施”的公告表示，鑑於技術的發展和地緣政治的背景，政府已經得出結論，有必要擴大現有的特定半導體制造設備的出口管制。
當日ASML以公告方式作出迴應：由於這些即將出臺的法規，ASML將需要申請出口許可證才能裝運最先進的浸潤式DUV系統。ASML還將對管制範圍的推斷進一步精確到兩款DUV浸潤式光刻機TWINSCAN NXT：2000i、TWINSCAN NXT：2050i。
3月9日，記者就此向ASML進一步詢問。對方迴應稱，基於公司的瞭解，出口限制將針對新設備和備件的發運。
一位熟悉半導體建廠的人士對記者稱，從目前公開的信息看，管制範圍是非常精確和具體的。通常來說，使用者（半導體制造廠）進入40/45nm節點後就需要使用浸潤式DUV，其中1980Di的使用在這個階段較爲普遍。2000i和2050i兩款設備則更爲先進，是有可能幫助使用者生產先進芯片的，也就是14nm及以下的芯片。
該人士稱，從這兩款設備的適用範圍來看，不涉及目前中國絕大部分的製造廠，使用者集中在少數頭部半導體制造廠，這些製造廠各自擁有不止一條產線，不同規模的產線所使用的機器數量不同，無法推斷出每家公司具體的裝機量。
就上述荷蘭方面行爲，3月9日，中國外交部發言人毛寧在例行記者會上表示，中方注意到有關報道，對荷方以行政手段干預限制中荷企業正常經貿往來的行爲表示不滿，已向荷方提出交涉。希望荷方秉持客觀公正立場和市場原則，尊重契約精神，不濫用出口管制措施，維護國際產業鏈供應鏈穩定和自由開放的國際貿易秩序，維護中荷兩國和雙方企業共同利益。
浸潤式DUV光刻機受限
光刻機按照光源波長可以劃分爲DUV和EUV系統。在DUV系統中，依照鏡頭和硅片之間的不同的介質可劃分爲乾式DUV和浸潤式DUV；從生產芯片的先進性來看， EUV >DUV浸潤式>DUV乾式。
ASML在公告中將限制的範圍進一步精確：新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，而只涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統。儘管尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，ASML將其解讀爲“關鍵的浸潤式光刻系統”，即TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統。
根據官網，ASML推出的浸潤式DUV有三款，依次是TWINSCAN NXT：1980Di、TWINSCAN NXT：2000i、TWINSCAN NXT：2050i。依照ASML所說，受限制的只有後兩款2000i和2050i。根據官網，2000i和2050i都可用於高級邏輯芯片和 DRAM節點的大批量製造。
Liesje Schreinemacher在關於國家出口管制措施的設計中，以最先進的深紫外（DUV）浸潤式光刻和沉積技術舉例，認爲這些技術與其他某些先進技術相結合，對先進半導體的生產起到關鍵作用，而荷蘭在這方面又具有獨特的領先優勢。
在中國與ASML有直接供應關係的企業主要是芯片製造商，有中芯國際、華力半導體、長江存儲等中國企業，還有三星的西安工廠、臺積電南京廠、英特爾大連廠、無錫SK海力士廠等外資企業。
上述人士稱，目前全國各地建設的半導體廠約有數百家，除了頭部的半導體廠，真正能用上浸潤式DUV的工廠並不多，整體的建設處於尚未形成規模效益的初期階段，月產能達到數十萬片晶圓的產線是非常少的。同時，這些產線不涉及先進芯片，主要用於生產技術相對成熟的芯片，如功率器件等。
對於這類光刻機在中國的裝機量，目前尚無相關的公開數據。根據ASML提供的數據，目前全方位光刻解決方案下的裝機量在中國已超過1000臺，其中硬件上包括光刻機臺和量測機臺，但該公司沒有公佈光刻機所佔的比例。
精確的管制範圍
不過，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法並生效。
在Liesje Schreinemacher的公告中表示，一些具體的國家出口管制措施是必要的，而且會涉及半導體生產週期中非常具體的技術，政府對最終所選的技術點是非常謹慎和精確的，以避免對價值鏈造成不必要的干擾，並考慮到國際公平競爭的環境。政府的目標是在夏季之前將先進半導體制造設備的部級法規發佈在政府公報上。
半導體已成爲中美兩個經濟體之間日益加劇競爭的關鍵戰場，ASML掌握的光刻技術是半導體生產工序中的關鍵。這家荷蘭公司已經和中國有超過20多年的業務往來，目前在中國有1500名員工。記者從該公司獲悉，ASML中國還在2023年擴充人力。
目前其對中國客戶的銷售可能再一次面臨限制。該公司曾在2023年1月發佈公告稱，一些關於先進芯片製造技術的管制措施正在擬定中，包括但不限於先進的光刻工具。公司一直與當局討論任何擬議法規的潛在影響，以確保對全球半導體供應鏈的影響得到適當評估。
在3月8日的公告中，ASML預計，這些管制措施不會對其已發佈的2023年財務展望以及於去年11月投資者日宣佈的長期展望產生重大性影響。
出於國際協定《瓦森納協定》等因素，在本次DUV浸潤式光刻機受限之前， ASML的EUV光刻系統已經受到限制。EUV光刻機是目前全球攻克7nm、5nm、3nm先進芯片批量生產的關鍵設備。
一直以來，ASML無法向中國客戶出售EUV光刻機，出售這類光刻機需要荷蘭政府的出口許可。但除此之外，ASML其他產品在中國一直未受到限制。
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沈怡然經濟觀察報記者
大科創新聞部記者
關注硬科技領域，包括機器人及人工智能、無人機、虛擬現實（VR/AR）、智能穿戴，以及新材料領域。擅長企業深度報道及上市公司分析報道。發現前沿技術、發展趨勢投資價值。