《未上市個股》濾能南科廠動土 明年H2啓用

半導體先進製程微污染控制耗材業者濾能今日南科新廠舉行動土典禮，董事長黃銘文說，公司在南科園區設立研發及量產中心，租用臺南園區「專44」用地約2200坪，規劃興建廠房，第一期投資額4.3億元，預計將在明年下半年落成啓用。

黃銘文指出，南科目前有國際一線半導體及設備、材料等國內外關鍵價值鏈廠商進駐，已形成全球最先進的半導體產業聚落，在南科與沙崙雙主軸及產業高質化帶動下，形成多元且具競爭力的產業聚落，是根留臺灣最好的選擇。

濾能公司營業項目爲模組化濾網、全面性空氣潔淨、氣體採樣分析及濾網安裝工程，提供客製化的設計，生產友善環境的綠色產品，併爲客戶提供最佳化學氣態微污染防治控制方案，搭配高效濾材再生技術，以節省支出成本，產品銷售予國內半導體先進製程大廠。

濾能爲半導體先進製程中微污染控制耗材的臺灣供應商，目前資本額近2億，員工人數近百人，去年營收更高達6.5億元，2020年12月股票公開發行。2021年3月前進南部科學園區於南科動土，預定4月楊梅新廠啓用。

濾能強調，公司與臺灣半導體的整體發展軌跡並進，爲半導體及面板產業客戶提供最佳AMC防治控制方案、研發生產半導體級化學濾網及移動式微污染濾淨設備及化學採樣分析等相關服務，產品主要應用在半導體先進製程，目前已是半導體科技大廠的緊密合作夥伴。