消息稱三星將於2025年初從ASML引進High-NA EUV光刻機

《科創板日報》30日訊，據報道援引消息人士稱，三星電子將從ASML引進首臺High-NA EUV光刻機EXE:5000，預計2025年初到貨。半導體設備安裝通常需要較長測試時間，該光刻機預計最快2025年中旬開始運行。High-NA EUV爲2納米以下先進製程所需設備，韓國業界預期，三星也將正式啓動1納米芯片的商用化進程。 (ET News)